改正特許法等の解説・２００９
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| はじめに | |
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２００８年はノーベル物理学賞３名、ノーベル化学賞１名と一挙に４名の日本のノーベル賞受賞者が誕生し、わが国の科学技術・研究史上における画期的な年となった。また、京都大学の山中教授が世界に先駆けて樹立した人工多能性幹細胞（ｉＰＳ細胞）の作製方法に関する最初の日本国特許が成立した年でもあった。 これらは、新規技術創出の促進、創出された新規技術の知的財産としての適切な保護、保護された知的財産の活用による新たな技術・知的財産の創出という知的創造サイクルの確立、そしてこれを通じた我が国経済の中長期的な成長と発展を目指す近年の我が国政府の施策を勇気付けるものといえる。 我が国では、知的財産の保護・活用を一層進めるべく、昨年も、特許法などに種々の改正が加えられた。 知的財産の戦略的な活用の促進と、迅速かつ適正な権利保護を図るべく、特許出願段階における実施許諾に係る登録制度（改正特許法）及び、包括ライセンス契約についての契約対象特許権を一括した登録制度（改正産業活力再生特別措置法）が創設された。また、特許法・意匠法・商標法における拒絶査定不服審判などの審判請求期間が改正され、中小企業に負担感が大きい特許後１０年目以降の特許料の引き下げ、商標の設定登録料・権利存続期間更新料の大幅な引き下げなどが行なわれた。 そこで、前記の法律改正に関して簡単な解説を行うと共に、立体商標の保護、新しいタイプの商標保護に関する検討の状況など商標保護の動向について簡単に紹介することとした。 以上
平成２１年１月１日 |
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